Prototypes de Nanotech avec nanolithographie par faisceau d'électrons
E-faisceau nanolithographie est utilisé dans les laboratoires de nanotechnologie pour créer des prototypes de circuits intégrés et d'autres semi-conducteurs. Il est comme la lithographie basée ultraviolets en ce qu'un faisceau d'électrons est axé sur la résine photosensible. Cependant, il existe des différences significatives entre les deux méthodes.
Par exemple, les champs électriques sont utilisés à la place d'une lentille pour focaliser le faisceau. En outre, plutôt que d'utiliser un masque pour définir un motif sur la résine photosensible, le faisceau se déplace pour créer le motif. Toute l'opération se déroule dans le vide parce que l'air ou tout autres blocs de substance le mouvement des électrons.
Vous pouvez acheter des systèmes de nanolithographie par faisceau d'électrons coûteux (pour quelques millions) ou modifier le microscope électronique à balayage (MEB) que vous avez dans votre laboratoire pour dessiner des motifs à la réserve. Les deux systèmes dédiés et des systèmes rénovés sont polyvalents dans la production de tout motif un chercheur peut penser.
![Un modèle créé à l'aide nanolithographie par faisceau d'électrons. [Crédit: Gracieuseté de Sungbae Lee à l'Université Rice]](/uploads/posts/2015/10/nanotech-prototypes-with-e-beam-nanolithography_1.jpg)
Les systèmes conçus à partir de zéro spécifiquement pour la nanolithographie peuvent écrire des caractéristiques aussi petites que 10 nm de large. Cette capacité rend ces systèmes idéal pour la réalisation de motifs nanométriques dans un laboratoire produisant des prototypes. Cependant, parce que les systèmes e-faisceaux doivent scanner le motif sur une plaquette, plutôt que de prendre un modèle à partir d'un masque préparés, ils sont trop lents pour les gros volumes de fabrication de circuit intégré.
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